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真空腔體組件

  • 所屬分類:真空半導體

  • 點擊次數:
  • 發布日期:2021/03/03
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詳細介紹

真空腔體常用的清洗方法

1、放電清洗

放電清洗一般用于高真空、超高真空腔體清洗中.放電清洗的效果取決于電機材料、幾何形狀及其與表面的關系.利用電子轟擊氣體造成解吸以及某些碳氫化合物的去除.

2、氮氣清洗

氮氣清洗主要是利用了氮氣在材料表面的吸附熱小、吸留時間短,容易被抽走的特性,用氮氣沖洗被污染的真空系統,同時擠占水氣等其他氣體分子的粘附空間,縮短真空系統的抽氣時間.


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